보배드림

빛의 밀도를 낮추고, 축소 배율을 높여서, 반도체 소자의 크기를 100배 줄이게 되면,

1나노 크기의 반도체에 100배의 트랜지스터를 더 넣을수있지.

그런데 그러면 한번에 그려내는데 시간이 너무 많이 걸린다는 문제가 있어.

이 문제를 해결하는 방법으로 마스크의 집적률을 높여주는거야.

가장 먼저 해야 할것은 석영 위에 크롬을 씌우고 2나노 전용 마스크를 만드는거지.

2나노 전용 마스크가 만들어졌으면, 이것을 활용해서 2차 마스크를 만드는거야.

1/4 ~ 1/10 비율로 축소하는거지.

2차 마스크부터 특수 마스크를 설치하는거야.

특수 마스크는 마스크와 동일한 크기의 6cm x 6cm인데, 그 안에 틀이 있어,

1/10배율의 틀에는 6 x 5의 현상판이 존재하는데, 

이곳에 1차 마스크로 만들어진 빛을 쏘아, 현상하는거지.

가령 1차 마스크에서 1/10배로 빛의 밀도를 낮추고, 2차 마스크를 현상하는거야.

그런데 이 특수 마스크에 30개중 1개만 체우냐, 30개 모두를 체우냐에 따라서, cpu의 집적률이 달라지는데,

1차 마스크에서 1칸만 넣은 마스크를 가지고, 다시 2차마스크를 만들고, 그 2차 마스크로 다시 한칸만 체운

3차 마스크를 만들면, 반도체 크기만 작아지게 되는거지.

그런데 만약에, 30개를 전부 체우게 되면, 크기만 작아지는게 아니라 집적률이 높아지는데,

1차 마스크에서 2차 마스크로 갈때 크기는 10배씩 줄어들고, 집적률은 30배씩 늘어나는거지.

30개를 다 체워서 2차 마스크를 만들고, 그 2차마스크로 3차 마스크를 만들고, 5차 마스크까지 만들었다고 가정하면

1나노가 0.0001배로 작아지게 되고,, 집적률은 7억2천900만배 늘어나게 되는거야.

일반 pc로 출시할때는 특수 마스크에 1개만 넣어서, 축소배율을 1.5배~10배까지 해서, 웨이퍼의 집적률은 유지하면서,

소자의 크기만 줄일수있고, 슈퍼 컴퓨터는 집적률까지 높여서, 비이상적인 성능을 가진 슈퍼 컴퓨터를 구현해낼수있는거지.

0.01나노로 가려면 마스크의 직접률을 높이면 되는거지.

0.1나노 이하로 가려면 100년이 걸려도 불가능하다.

반도체 업계에서는 1나노 이하는 절대 불가론이 대세인데,

0.01나노가 실현되고, 초전도체 반도체가 만들어지게 되면, 전압에서도 자유로워지는데,

성능을 비약적으로 높일수있는거지.