마스크의 집적률을 높여주면 바로 가능한데,
마스크를 만들때, 석영기관에 크롬을 씌우고, 감광액을 도포하고, 레이저 빔으로 회로를 그리는데,
이 공정은 레이저 빔이 아니라 마스크로 회로를 그리는거야.
마스크의 빛의 밀도를 1/10배 줄이고, 축소 배율을 10배로 늘려서, 형상을 그려내는거지.
마스크의 빛의 밀도를 1/2배로 줄이고, 축소 배율이 4배일때 가장 해상도가 좋다는 가정하에서,
1차 마스크를 원래 만들던대로 만들고, 2차 마스크는 회로를 그릴때,
1차 마스크를 활용하는거야.
2차 마스크부터 축소 배율에 따라서 전용 마스크를 만드는데, 축소배율이 4배이기 때문에,
4개의 규격을 만들어두는거지.
EUV 레이저로 마스크 저 4곳에 그려넣는거야.
그러면 1차 마스크 크기가 6cm x 6cm인데,
2차 마스크 안에는 1차 마스크의 4개 분량이 들어가있는거야.
그리고 만들어진 2차 마스크를 통해서, 다시 3차 마스크에 4개를 그리게 되면,
4 X 4 X 4 64배가 들어가게 되는거야.
이렇게 마스크의 집적률을 높이게 되면, 빛의 밀도를 1/100만배까지 낮출 필요가 없고,
축소 배율도 100만배까지 높일필요 없이 가능해지는거지.
3차,4차,5차,6차,.... 20차 마스크가 되면 집적률이 매우 높아지겠지.
마스크 반도체 집적률을 높이는게, 반도체가 나아가야 할 방향인데,
전성비와 함께 성능이 대폭 상승하게 될꺼야.
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