10억분의 1나노를 만드는게 가능해졌는데,
반도체 마스크의 집적률을 높이기만 하면 되는 문제가 되어버렸기 때문이지.
기존에 있던 6cm X 6CM 크기의 마스크를 활용해서,
같은 면적에 12배의 집적률을 가지는 2차 마스크를 만드는거야.
그러면 같은 면적에 12배가 들어간 회로를 그려낼수있지.
2차 마스크에는 1차 마스크를 현상할곳 12개 포인트를 만들어 뒀는데,
이 12개에 1차 마스크의 회로를 포토 공정으로 그려넣는거지.
그리고 2차 마스크가 만들어지게 되면, 3차 마스크에 동일하게,
12개의 포인트에 동일하게 쏴주는거야.
1차가 1나노 라고 가정하면 2차 마스크는 같은 면적에 반도체 회로가 12배가 더 들어가고,
3차 마스크는 같은 면적에 144배가 들어가는거야.
4차 마스크는 같은 면적에 1,728배 더 들어가는거지.
4차 마스크 안에는 12개의 3차 마스크 현상물이 있고,
3차 마스크 안에는 12개의 2차 마스크 현상물이 있고,
2차 마스크 안에는 12개의 1차 마스크 현상물이 있는거지.
이렇게 5차, 6차, 7차, 8차, 9차, 10차 까지 가게 되면
5차는 20,736배, 6차는 248,832배, 7차는 2,985,984배, 8차는 35,831,808배,9차는 42,9981,696배,
10차는 5,159,780,352배까지 늘어나는거야.
10차 마스크 안에는 9차 12개의 마스크 9차 마스크 현상물이 있겠지.
물질을 확대 할때는 빛을 고밀도로 쏘아서, 많이 모아야 하는데,
점점 확대할수록 빛의 손실 분이 생기면서 공백이 생기기 때문에, 물리적 한계가 존재하는데,
축소할때는 빛의 밀도만 낮춰주면 되기 때문에 축소 배율에는 한계가 없어.
그래서 1억배 1000억배, 1경배도 축소가 가능하다는거지.
1경배를 축소하게 되면 머리카락 굵기의 1/1000억분의 1크기에도 회로를 그려넣을수있는데
그만큼 면적뿐만 아니라 높이도 낮아지겠지.
당장 0.01나노를 만들려면 1차 마스크를 1/10배로 축소해서,
2차 마스크에 12개를 넣고, 2차 마스크를 이용해서, 3차 마스크를 만드는거야.
3차 마스크에서 0.01나노 반도체 144개를 같은 반도체 크기에 넣는데, 그러면 성능이 대폭 상승하겠지.
만약에 1차 마스크를 1/10배로 축소해서 넣고,
12개를 넣지 않고 1개만 넣는거야.
그렇게 3차 마스크까지 만들게 되면 3차 마스크에도 0.01나노 반도체가 1개만 들어가겠지.
CPU 성능을 100배,1000배,10000배까지 높일수도 있고, 크기만 작게 만들어서, 전성비만 낮출수도 있어.
서버용은 1억배,100억배까지 성능과 전성비를 높일수도 있지.
마스크 집적률을 높이는것과 빛의 밀도를 낮추고, 축소 배율을 10배 이하로 해, 해상도를 높이는것이 핵심이야.
0.01나노가 3년안에 출시되고, 3년에 한번씩 반도체의 크기가 100배씩 작아진다면
반도체의 눈부신 발전 속도를 경험하게 될꺼야.
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